Bloomberg Technoz, Jakarta - Samsung Electronics menunda penggunaan komersial penuh mesin litografi High-NA EUV hingga proses fabrikasi chip 1 nanometer (1nm), meskipun sebelumnya teknologi tersebut diperkirakan akan digunakan untuk produksi chip 2nm.

Keputusan tersebut diambil karena ekosistem pendukung High-NA EUV dinilai masih belum matang, disampaikan Kepala Tim Pusat Pengembangan dan Riset Semikonduktor Samsung, Park Chang-min, dilansir dari SamMobile, Rabu (12/8/2026).

Sejumlah komponen yang diperlukan untuk memaksimalkan teknologi tersebut, termasuk mask, pellicle, dan material khusus, masih membutuhkan pengembangan lebih lanjut.

High-NA EUV merupakan teknologi litografi generasi terbaru yang memungkinkan produsen chip mencetak pola sirkuit berukuran lebih kecil dengan resolusi lebih tinggi. Peningkatan NA dari 0,33 menjadi 0,55 memungkinkan proses single patterning untuk sirkuit yang sangat kecil sehingga dapat mengurangi tahapan produksi dan memberikan fleksibilitas desain yang lebih besar.

Namun, teknologi tersebut membutuhkan investasi besar. Satu mesin High-NA EUV diperkirakan memiliki harga sekitar US$350 juta hingga US$400 juta. Kondisi tersebut membuat kematangan ekosistem menjadi faktor penting bagi perusahaan semikonduktor sebelum menggunakan mesin tersebut dalam produksi massal.